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製品情報

東ソー・スペシャリティマテリアルは当社独自の原料調製、成形技術、焼成技術により高純度、高密度で、 かつ種々の形状に対応したスパッタリングターゲットをご提供しております。 また、次世代のニーズに対応するため、東ソー株式会社と連携して新たなスパッタリングターゲットの開発にも 積極的に取り組んでいます。

スパッタリングってなに?

スパッタリングとは基板の上に薄膜を形成する方法の一種です。
 
原理
チャンバー内に薄膜の材料(ターゲット)と、基板を設置します。チャンバー内を真空排気した後にArガス*を導入し、ターゲットを陰極として高電圧をかけることで、ターゲット上部でArプラズマ(Arイオンと電子の混合状態)を形成します。プラズマ中のArイオンは陰極のターゲットに電気的に引き寄せられ加速しターゲット表面に衝突します。ターゲット表面の原子は衝突したArイオンにより弾き飛ばされ、チャンバー内に放出されます。基板へ到達したターゲット原子は基板表面に堆積して薄膜を形成します。 
*:Arガスの他にも目的により様々なガスが使われています。

用途
スパッタリングは、半導体、液晶、反射防止膜、装飾などの様々な分野で用いられています。

主要製品

製造プロセス

原料粉末の調整または調合
   ↓
成 形
   ↓
焼 成
   ↓
加 工
   ↓
加工品検査
   ↓
ボンディング
   ↓
ボンディング検査
   ↓
洗浄・乾燥
   ↓
出荷検査
   ↓
10
梱包・出荷


クロムターゲット

経験と技術を活用し、独自の高純度化技術により低不純物、低パーティクルターゲットをご提供いたします。また各種形状やサイズにも対応しております。
ITO(In2O3-SnO2)ターゲット
バインダーを使わない独自成形技術や焼成技術により高純度で微細かつ高密度なターゲットをご提供いたします。また酸化インジウムをベースとした独自の組成による低温結晶グレードや高透過率グレードなど種々の特徴あるターゲットをご用意しています。液晶製品、太陽電池のみならず他の低不純物を嫌う様々な製品にもご利用いただけます。

その他ターゲット

ご要望に応じ種々な金属ターゲット、合金ターゲット、酸化物ターゲットをご提供いたします。

開発品

次世代のスパッタリングターゲットとして、東ソーにて各種特徴のあるターゲットを開発しています。

セラミックス製造

セラミックス製造課では、同じ東ソーグループの東ソー・セラミックス株式会社から技術を導入し、精度の高い精密セラミックス成形を受託しております。
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